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產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD桌面式小型濺射儀
產(chǎn)品簡介
桌面式小型濺射儀KT-Z1650PVD磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點(diǎn)。
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據(jù)需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺(tái)尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質(zhì) | 金 鉑 銅 銀 等 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電氣 |
桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD
傳統(tǒng)的濺射技術(shù)的工作原理是：在高真空的條件下，入射離子（Ar+）在電場的作用下轟擊靶材，使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動(dòng)能脫離靶材表面，沉積在基片表面形成薄膜。但是，電子會(huì)受到電場和磁場的作用，產(chǎn)生漂移，因而導(dǎo)致傳濺射效率低，電子轟擊路徑短也會(huì)導(dǎo)致基片溫度升高，為了提高濺射效率，在靶下方安裝強(qiáng)磁鐵，中央和周圈分別為N、S極。電子由于洛倫茲力的作用被束縛在靶材周圍，并不斷做圓周運(yùn)動(dòng)，產(chǎn)生更多的Ar+轟擊靶材，大幅提高濺射效率，如圖所示，采用強(qiáng)磁鐵控制的濺射稱為磁控濺射。
桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù)；
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測(cè)量 | 皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
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