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當前位置:首頁產品中心材料樣品處理小型蒸鍍儀KT-1650PVD小型磁控濺射儀

小型磁控濺射儀

產品簡介

小型磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節(jié),及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

產品型號:KT-1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:1763
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品牌鄭科探應用領域電子
樣品臺?可旋轉φ62?(可安裝φ50基底)

    小型磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節(jié),及電動擋板功能。

   小型磁控濺射儀 通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。


控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

極限真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口



















公司與國內高校,科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室,相關領域的教授、工程師、博士參與公司產品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴謹的技術研發(fā)能力,科學合理的生產工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。


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